Японская компания Dai Nippon Printing усовершенствовала процесс нанолитографии, сделав его значительно выгоднее фотолитографии, доминирующей сейчас на рынке. Об этом сообщает Nikkei Asia.
В настоящее время нидерландская ASML контролирует до 90% рынка оборудования для производства чипов, поставляя машины для фотолитографии. В этой технологии микросхемы создаются на кремнии с помощью мощных УФ-лазеров. Процесс требует огромных затрат энергии, а стоимость оборудования достигает сотен миллионов долларов.
Японская разработка бросает вызов этому статусу-кво, возрождая технологию нанолитографии, где схема не рисуется лазером, а отпечатывается на кремниевой пластине. Ранее считалось, что этот метод непригоден для создания чипов с топологическим узлом менее 2 нанометров.
Инженеры Dai Nippon Printing преодолели это ограничение, разработав специальный материал. С его помощью можно формировать точный след будущей микросхемы для последующего травления. Второй ключевой компонент — оборудование компании Canon, которое позволяет создавать структуры размером до 1,4 нм. В совокупности новая нанолитография оказывается на 90% дешевле традиционной фотолитографии.
Перспективной разработкой уже заинтересовались ведущие производители, включая Samsung Electronics, TSMC, Micron Technology и Kioxia. Для широкого внедрения компаниям необходимо убедиться в стабильности и надежности процесса. Kioxia уже запустила тестовое производство. Если испытания пройдут успешно, массовое внедрение технологии другими компаниями может начаться в 2027–2028 годах.