Китайский стартап Prinano сообщил об успешном тестировании технологии наноимпринтной литографии для серийного производства фотонных чипов на 8-дюймовых кремниевых пластинах.
Производство велось без использования традиционного оборудования глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV). В процессе применялась установка PL-AS с воздушно-вакуумной подушкой, а также специальные двухслойные материалы.
Разработчики утверждают, что себестоимость производства может быть снижена примерно до одной десятой от затрат при традиционном DUV-методе. Технология ориентирована на выпуск фотонных чипов, используемых в оптической связи, сенсорике и лидарных системах.
В то же время в отрасли ведутся дискуссии о реальной эффективности наноимпринтной литографии с точки зрения объемов выпуска, выхода годных изделий и возможности применения для непротонных чипов.